설명
테크노플론 FKM의 플루오로 엘라스토머는 각각 66%와 68-70%의 플루오르 함량을 가진 코폴리머와 테르폴리머로 구성됩니다.그들은 기본 폴리머 (고무) 또는 이온 또는 과산화 가열 시스템으로 구성 된 제품으로 제공됩니다..

이온화성 FKM
이온화형 FKM 물질은 가공 용이성과 함께 기계적 특성과 밀폐 성능의 좋은 균형을 가지고 있습니다.그들은 기본 폴리머 (고무) 또는 통합 된 경화 시스템과 함께 수립 된 품종으로 제공됩니다 (그라드 이름의 FOR 접두어로 표시됩니다)粘度, 완화 속도 및 교차 링크 밀도의 다양한 조합이 모든 조형 프로세스에 적합합니다. HS 코폴리머는 낮은 완화 후 주기에 설계되었습니다.고무와 금속 결합 등급은 모든 폼링 기술에 사용할 수 있습니다..

이온 가열 가능한 Tecnoflon® FKM 제품은 모노머 성분에 따라 분류됩니다.
* 코폴리머는 VDF 및 HFP 모노머를 기반으로 한 다재다능한 폴리머이며 66%의 플루오르 함량을 가지고 있습니다.
* 테르폴리머는 더 높은 플루오르 함량 (68~70%) 으로 인해 코폴리머보다 더 좋은 화학 저항성을 제공합니다.
* 낮은 온도 테르폴리머는 이온화성 코폴리머와 유사한 화학 저항을 제공합니다. 폴리머는 65.5%의 플루오르 함량을 가지고 있으며 낮은 유리 전환 온도 (Tg) 를 나타냅니다.

테크노플론 PFR X1055B새로운 페르플루오로엘라스토머 (FFKM) 로 극한 온도에서 뛰어난 열 저항, 낮은 압축 세트 및 향상된 밀폐력 보유를 제공합니다.테크노플론® PFR X1055B는 10 ~ 315°C의 온도에서 대부분의 응용에 적합합니다.탁월한 열 저항과 함께 산, 촉매, 케톤, 알데히드, 에스터, 에터, 알코올, 용매,산성 가스 및 탄화수소그러나 심각한 수분 및 아민 응용 용도로 사용하는 것은 권장되지 않습니다.

탁월한 열 저항과 함께 산, 촉매, 케톤, 알데히드, 에스터, 에터, 알코올, 용매,산성 가스 및 탄화수소그러나 심각한 수분 및 아민 응용 용도로 사용하는 것은 권장되지 않습니다.

열 및 화학 저항의 이 독특한 조합은 Tecnoflon® PFR X1055B를 선택 된 밀폐 재료로 만듭니다.
고온 화학 및 탄화수소 가공 산업 및 항공우주 응용 분야에 사용됩니다.

At the same time its extreme cleanliness (low metal ion content with low extractables) along with its superior thermal stability and its plasma resistance make Tecnoflon® PFR X1055B a very suitable sealing material for most dry plasma (etching, PECVD, LPCVD, 금속 CVD, PVD, ALD, 플라즈마 정화) 및 반도체 제조 산업의 고온 열 프로세스.

테크노플론® PFR X1055B다른 전형적인 플루오로엘라스토머 화합물 성분들과 결합할 수 있다. 두 롤 밀러 또는 내부 믹서기를 사용하여 혼합할 수 있다.완제품 은 다양한 고무 가공 방법 으로 생산 될 수 있다. 테크노플론® PFR X1055B의 주요 사용은 O 링, 가스켓, 플랜지, 밸브 몸체, 나비 밸브, 펌프 하우스 및 스테터와 같은 모든 종류의 엘라스토머리 밀폐 요소의 제조입니다.금속 결합된 부품이 밀폐 요소는 기계적 밀폐, 펌프, 압축기, 밸브, 원자로, 믹서, 스프레이, 분배기, 빠른 연결 결합기, 제어기,기기, 화학 및 석유화학 산업뿐만 아니라 탄화수소 가공, 항공 우주 및 반도체 제조 산업. Tecnoflon® PFR X1055B is marketed in raw polymer form (1 kg box) in order to give the transformer the freedom and the opportunity to develop and fine-tune compounds as well as items best-suited to producing high performance rubber articles.